Intel ya empieza a mandar muestras de ingeniería de las CPU Alder Lake

Uno de los problemas más importantes de Intel en la actualidad de Intel es el retraso con la litografía de 10nm. Durante la presentación de cuentas a los accionistas se han relevado detalles nuevos de las nuevas CPU hibridas Alder Lake. Se ha indicado que ya se están distribuyendo entre los socios diferentes muestras de ingeniería, preparando el lanzamiento en 2021.

El próximo año se espera el lanzamiento de los procesadores Intel Alder Lake, los primeros procesadores híbridos de la compañía. Dichos procesadores combinarán núcleos de bajo consumo y núcleos de alta potencia. Estos además serán los primeros procesadores de Intel para ordenadores de sobremesa en usar la litografía de 10nm, la cual llega con muchos años de retraso.

Se distribuyen muestras de ingeniería de las CPU Intel Alder Lake

Estamos ahora muestreando nuestra CPU 2021 para clientes Alder Lake, y estaremos muestreando nuestros CPUs para centro de datos Sapphire Rapids más tarde en el cuarto trimestre. Ambos ofrecerán capacidades significativas habilitadas por nuestros seis pilares de innovación, incluyendo nuestra tecnología SuperFin mejorada [10nm].

Bob Swan, CEO de Intel

La arquitectura Alder Lake promete llevar el diseño multinúcleo heterogéneo al diseño de procesadores x86. El máximo para estos nuevos procesadores sería de 16 núcleos por chip, combinando núcleos de bajo consumo y núcleos de gran potencia. Intel ha destacado que estos nuevos procesadores pertenecen al segmento de rendimiento.

Estamos avanzando nuestra arquitectura híbrida de manera significativa con el enfoque en el rendimiento. Estamos trabajando en la próxima generación de hardware, optimizado para el rendimiento y aprovechando todo sin problemas. Alder Lake no sólo será genial por su rendimiento, sino que también será nuestro mejor rendimiento por arquitectura en vatios.

Raja Koduri, Arquitecto Jefe de Intel.

Para estos procesadores se usarán los 10nm Enhaced SuperFin, la 4ª generación de la litografía de 10nm. Esta litografía inicialmente se desarrolló para los chips de Data Centers, ya que ofrecen una mejora de consumo y una mayor frecuencia.

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Fuente: TH

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