No hay descanso en la carrera de los nanómetros y es que TSMC ya ha dado datos al respecto de sus próximos procesos litográficos N7P, N5 y N5P.
Pese a que acaban de llegar al mercado los 7nm, las grandes fundiciones ya estan desarrollando o ultimando las próximas litografías. La taiwanesa TSMC ha anunciado seis nuevos nodos de rendimiento y cinco nuevas técnicas de empaquetado. Unos nodos que se extenderán hasta 2023. Las técnicas de empaquetado, por otro lado, se usaran en SoC para móviles, receptores frontales o módems 5G.
La fundición taiwanesa ya dejo entrever algunas de estas mejoras en el simposio VLSI. Allí mostro los primeros chips A72 de ocho núcleos fabricado a mediada con una frecuencia de 4.0GHz a una tensión de 1.2V. Además TSMC dio los primeros datos al respecto de la introducción de disulfuro de tungsteno como material de canal para los 3nm y en adelante.
TSMC habla de los planes de futuro de sus litografías
Durante la Semicon West de este año, la fundición ha dicho que ha consolidado el nodo de proceso y los planes de embalaje. También han destacado el nodo N7+, que será el primero basado en EUV que fabrican. Tras el nodo N7 llegara el N5, aunque hay tres nodos intermedios que aprovechan la IP y el diseño N7.
El nodo N7 tiene como sustituto el N7P, una optimización del primero basado en DUV. N7P hace uso de las mismas reglas de diseño del N7, siendo una IP compatible con N7 y usa mejoras FEOL y MOL. Consigue ofrecer una mejora de rendimiento del 7% y mejora la eficiencia energética en un 10%.
Actualmente TSMC ya ha iniciado la producción de riesgo de los 5nm, conocidos como N5. Esta producción se inició el 4 de abril y cuya producción masiva no estaría disponible hasta 2021. La compañía espera que la producción aumente en 2020, debido a que han invertido mucho en el desarrollo de N5. Se le considera el primer reemplazo completo de N7 con EUV.
Los chips N5 doblaran la densidad (171,3 MTR/mm²) con respecto a los N7. Esto les permite mejorar el rendimiento en un 15% y reducir el consumo hasta un 30% con respecto al N7. Las optimizaciones FEOL y MOL no llegaran hasta el N5P. Así mismo, N5P mejorara en un 7% el rendimiento y en un 15% el consumo energético con respecto a N5.
Fuente: wccftech