Intel anuncia que tiene memorias NAND Flash fabricadas en el proceso de 10nm, con una densidad de transistores superiores a la esperada, mejorando así el rendimiento y el consumo.
Los productos más versátiles del mercado y más fáciles de fabricar, son las memorias no volátiles, también conocidas como memorias NAND Flash. Muchos fabricantes prueban los nuevos procesos de fabricación en este tipo de memorias, por ser fáciles de fabricar y tener un bajo coste. Intel ha imitado esta práctica y acaba de anunciar que ya tiene fabricado el primer chip tipo NAND Flash de 10nm, lo cual quiere decir que al final, el proceso de 10nm está ultimado y operativo y se habrían solventado los últimos pequeños problemas de este proceso de fabricación.
Intel en el proceso de los 10nm ha implementado la tecnología FinFET Hyper Scaling, algo que permite aumentar la densidad de los transistores en 2.7x, con respecto a la densidad normal esperada en el proceso de fabricación de los 10nm. Así pues, el chip 3D NAND de 64 capas fabricado en 10nm por Intel tendrá una gran densidad de transistores, además de todos los beneficios de este nuevo proceso de fabricación, que aporta una mejora en el rendimiento y en la eficiencia energética. Los primeros chips de estas características irán a unidades SSD destinadas al segmento profesional, por los elevados costes y poco a poco ira mejorándose el proceso de fabricación y bajando el precio final.
Hasta ahora hemos hablado de los 10nm para los procesadores de Intel y la compañía es conocida por sus procesadores, pero en realidad trabajan y desarrollan muchos más productos y no solo se dedican a los procesadores. Ejemplos de otras tecnologías es el puerto Thunderbolt o las unidades Intel Optane. Posiblemente este sea el último anuncio del año por parte de Intel, con la salvedad de la llegada al mercado de los procesadores Intel Coffee Lake.
